| 照片 |
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| 仪器中文名 | 离子抛光仪 |
| 仪器英文名 | Ion polishing system |
| 型号 | Leica EM TIC3X |
| 制造商 | 徕卡 |
| 产地 | 德国 |
| 购买年份 | 2018 |
| 仪器负责人 | 鞠晶 |
| 可对外开放时间 | 工作日 |
| 安放地点 | B145 |
| 所在实验室 |
电子显微镜
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| 仪器编号 | |
| 主要规格 |
离子抛光仪是为SEM（扫描电镜）、XTEM（剖面、横截面透射显微镜）及FIB（聚焦离子束电镜）等设备提供样品制备的必备设备。该设备适用于具有特殊制备要求的高质量样品制备。
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| 技术指标 |
可容纳最大样品尺寸：切割模式：50*50*10mm，抛光模式：φ38mm*高12mm
可获得有效切割面积：切割模式：＞4mm×1mm；抛光模式：φ：25mm；
三把离子枪，离子束能量1keV-10keV，切割速率300μm/h (Si@10kV, 50μm切割高度)
离子束处理过程中样品位置固定，无需偏转运动，无投影效应，热传导性好
可进行离子束切割或刻蚀，可选择任意离子枪
真空泵解耦合设计，无震动传导
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| 功能 |
离子抛光仪的离子源在真空环境下通过高压电场作用于腔室内的氩气产生氩离子，氩离子经过阴极孔洞流出，聚集产生离子束，通过离子束轰击到旋转样品台中的样品表面，使样品表面不断失去原子，旋转样品台带动样品旋转最后至样品表面原子排列平整，最终达到对样品抛光的目的。体式显微镜可以实时监测样品的加工状态，用来保证结果样品的加工质量，可通过主机触摸屏控制器设定和显示电源开启、观察照亮度和光照角度。离子抛光仪是为SEM（扫描电镜）、XTEM（剖面、横截面透射显微镜）及FIB（聚焦离子束电镜）等设备提供样品制备的必备设备。该设备适用于具有特殊制备要求的高质量样品制备，允许自由变换离子源参数以及提供多种离子源组合，能帮助用户开展新材料和样品制备新方法研究。
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| 应用范围 |
是为SEM（扫描电镜）、XTEM（剖面、横截面透射显微镜）及FIB（聚焦离子束电镜）等设备提供样品制备的必备设备。该设备适用于具有特殊制备要求的高质量样品制备，允许自由变换离子源参数以及提供多种离子源组合，能帮助用户开展新材料和样品制备新方法研究。
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| 主要附件 | |
| 收费标准 |
一个样：1500-3000元，根据样品特性是否需要精研一体机联合制样确定价格
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| 检测说明 |
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| 备注 |
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