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仪器设备
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近常压X射线光电子能谱仪

照片
仪器中文名近常压X射线光电子能谱仪
仪器英文名Near Ambient Pressure X-Ray Photoelectron Spectroscopy
型号NAP-XPS
制造商Specs
产地德国
购买年份2020
仪器负责人徐尧
可对外开放时间全天
安放地点新化学楼A122
所在实验室 电子能谱
仪器编号202010390
主要规格 1. Backfilling近常压分析系统(PHOIBOS150NAP, 1D-DLD); 2. 微聚焦高性能单色化Al Ka X射线源(uFOCUS600NAP); 3. 五轴样品台(XYZPAz); 4. 三路高精度自动进气及压力控制系统(1~ 25 mbar); 5. 低能小点离子源(IQ12/38:0.2 ~ 5 KV, 低/高能模式, 70 nA / 8 uA); 6. 高温高压反应室(HPC); 7. 荷电中和枪(FG22/35: 1 ~ 500 eV, < 1 mA);
技术指标 1. 微聚焦X射线光源: 250 um(20W) ~ 1 mm(180W); 2. 光电子能量分辨: Ag3d5/2, FWHM 0.85 eV, 70 kcps (UHV), 7 kcps(10 mbar N2), 50W单色Al Ka; 2. 分析室压力范围: 5 E-9 ~ 25 mbar. 3. 样品台温度区间: 140 K ~ 1100 K, 激光加热器(~ 50 W). 4. 高温高压反应室: 800 ℃, 20 bar
功能 1. 定性:定性检测元素周期表中除H和He以外的几乎所有元素种类及价态信息; 2. 定量:半定量,表面灵敏型测试深度小于10纳米; 3. 气氛实验:一定气氛条件下检测材料表面结构变化,捕捉表面吸附物种信息。 4. 反应监测:原位监测反应过程中气体组成及变化。
应用范围 1、用于测量气氛条件下表面化学组成及化学态; 2、深度剖析; 3、微区定性及半定量分析; 4、样品要求:少量、干燥的粉末样品或小面积片状样品,不应含腐蚀性(酸处理后残留)、易挥发性(有异味)、磁性及放射性物质; 5、气氛要求:不能使用带腐蚀性(如NH3)或有潜在爆炸危险(如乙炔)气体。
主要附件1.高压催化反应室(HPC); 2.高/低能离子刻蚀枪(IG); 3.荷电中和枪(FG); 4.残余气体分析器(RGA); 5.标准手套箱。
收费标准 1.校内7500元/时段(15小时); 2.校外15000元/时段(15小时); 3.常规的样品预处理及通气变温测试需要机时约15小时以上。
检测说明 NAP-XPS相比于常规XPS仪器有一定的特殊性且操作较为复杂,为了更好地契合大家的科研需求,能谱实验室会与课题组密切配合,共同讨论、策划实验方案和测试内容并约定实验时间,课题组需指派1-2名研究生在仪器负责老师的带领下进行实验及测试,并提前预订实验所需气体,对于测试需求较多的课题组建议有相对固定人员参加仪器培训。常规的样品预处理及通气变温测试需要机时约15小时以上。
备注 NAP-XPS仪器培训流程: 1、参训人员首先应熟悉常规X射线光电子能谱仪(XPS)基本原理和使用操作,培训及考试合格后方可参加NAP-XPS培训; 2、参训人员需对真空系统及气路搭建有一定的了解,届时需要根据实验内容准备实验气体和连接气路; 3、参训人员应至少参加三次老师指导下的NAP-XPS实验操作,经培训老师考核认可后可独立预约使用仪器,具体培训内容视实验方案而定。
 

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